A tantálnak magas olvadáspontja, alacsony gőznyomása, jó hidegmegmunkálási teljesítménye, nagy kémiai stabilitása van. Folyékony fémek korrózióállósága, felületi oxidfilm dielektromos állandója és egy sor kiváló tulajdonság. Ezért a tantál az elektronikában, a kohászatban, a vas- és acéliparban, a vegyiparban, a keményfémben, az atomenergiában, a szupravezetési technológiában, az autóelektronikában, a repülőgépiparban, az egészségügyben, a tudományos kutatásban és más csúcstechnológiás területeken fontos alkalmazási területekkel rendelkezik.
A világ tantál 50-70%-a kondenzátorminőségű tantálpor és tantálhuzal formájában a tantálkondenzátorok gyártásához. Mivel a tantál felülete sűrű és stabil, nagy dielektromos szilárdságú amorf oxidfilmet képezhet, könnyen pontosan és kényelmesen szabályozható a kondenzátor anódos oxidációs folyamata, míg a tantálpor szinterezett blokk nagyon kis térfogatban lehet nagy felület eléréséhez, így a tantál kondenzátor berendezés nagy kapacitású, a szivárgási áram kicsi, az egyenértékű soros ellenállás alacsony, a magas és alacsony hőmérsékleti jellemzők jó, hosszú élettartamú, a kiváló általános teljesítmény, más kondenzátorok nehezen illeszkednek , széles körben használják a kommunikációban (kommunikáció), az egészségügyi és a tudományos kutatásban. Széles körben használják a kommunikációban (kapcsolók, mobiltelefonok, személyhívók, faxok stb.), számítógépekben, autókban, otthoni és irodai berendezésekben, műszerekben és mérőeszközökben, repülőgépiparban, védelmi és katonai iparban, valamint más ipari és tudományos ágazatokban. Ezért a tantál rendkívül sokoldalú funkcionális anyag.
